HEAL DSpace

Characterisation of oxidation-induced stacking faults in SOI structures by a new chemical etching process

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Εμφάνιση απλής εγγραφής

dc.contributor.author Tsamis, C en
dc.contributor.author Tsoukalas, D en
dc.contributor.author Guillemot, N en
dc.contributor.author Stoemenos, J en
dc.contributor.author Margail, J en
dc.date.accessioned 2014-03-01T01:41:03Z
dc.date.available 2014-03-01T01:41:03Z
dc.date.issued 1992 en
dc.identifier.uri https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/23338
dc.title Characterisation of oxidation-induced stacking faults in SOI structures by a new chemical etching process en
heal.type journalArticle en
heal.identifier.primary 10.1088/0268-1242/7/1A/037 en
heal.identifier.secondary http://dx.doi.org/10.1088/0268-1242/7/1A/037 en
heal.publicationDate 1992 en
heal.journalName Semiconductor Science and Technology en
dc.identifier.doi 10.1088/0268-1242/7/1A/037 en


Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)

Εμφάνιση απλής εγγραφής