HEAL DSpace

Silicon interstitial reactions with thermally grown silicon dioxide

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Εμφάνιση απλής εγγραφής

dc.contributor.author TSAMIS, C en
dc.contributor.author TSOUKALAS, D en
dc.contributor.author GUILLEMOT, N en
dc.date.accessioned 2014-03-01T01:41:44Z
dc.date.available 2014-03-01T01:41:44Z
dc.date.issued 1993 en
dc.identifier.uri https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/23612
dc.title Silicon interstitial reactions with thermally grown silicon dioxide en
heal.type journalArticle en
heal.identifier.primary 10.1016/0167-9317(93)90188-B en
heal.identifier.secondary http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(93)90188-B en
heal.publicationDate 1993 en
heal.journalName Microelectronic Engineering en
dc.identifier.doi 10.1016/0167-9317(93)90188-B en


Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)

Εμφάνιση απλής εγγραφής