dc.contributor.author | Παπαδημητρίου, Βασίλης | el |
dc.contributor.author | Papadimitriou, Vasilis | en |
dc.date.accessioned | 2017-03-03T10:31:14Z | |
dc.date.available | 2017-03-03T10:31:14Z | |
dc.date.issued | 2017-03-03 | |
dc.identifier.uri | https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/44491 | |
dc.identifier.uri | http://dx.doi.org/10.26240/heal.ntua.13872 | |
dc.rights | Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση 3.0 Ελλάδα | * |
dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/by-nc/3.0/gr/ | * |
dc.subject | Θερμική ανόπτηση πυριτίου | el |
dc.subject | Ενεργοποίηση προσμείξεων | el |
dc.subject | Διάχυση προσμείξεων | el |
dc.subject | Ακτινοβόληση | el |
dc.subject | Υπέρυθρο | el |
dc.subject | Αποδόμηση | el |
dc.subject | Προθέρμανση | el |
dc.subject | Μορφολογικός χαρακτηρισμός SEM | el |
dc.subject | Ηλεκτρικός χαρακτηρισμος Van Der Pauw | el |
dc.subject | Επιφανειακή αντίσταση | el |
dc.subject | Quick thermal annealing | en |
dc.subject | Dopant activation | en |
dc.subject | Dopant diffusion | en |
dc.subject | Irradiation | en |
dc.subject | Infrared | en |
dc.subject | Ablation | en |
dc.subject | Preheating | en |
dc.subject | SEM | en |
dc.subject | Van Der Pauw electrical measurements | en |
dc.subject | Sheet resistance | en |
dc.title | Αλληλεπίδραση ακτινοβολίας laser με ημιαγωγούς | el |
heal.type | bachelorThesis | |
heal.secondaryTitle | Ταχεία ανόπτηση ημιαγωγών με χρήση ακτινοβολίας laser | el |
heal.classification | Optoelectronics and photonics | en |
heal.classificationURI | http://data.seab.gr/concepts/479e7dca067e6bab09a59b119f7c54a136587a83 | |
heal.language | el | |
heal.access | free | |
heal.recordProvider | ntua | el |
heal.publicationDate | 2016-10-24 | |
heal.abstract | H εργασία αυτή παρουσιάζει τα αποτελέσματα μιας πειραματικής μελέτης που στόχευε να προσδιορίσει τις καλύτερες συνθήκες θερμικής ανόπτησης για ντοπαρισμένα δείγματα πυριτίου, προκειμένου να επιτευχθεί διαμόρφωση της ηλεκτρικής αγωγιμότητας των επιλεγμένων περιοχών για την ανάπτυξη ρηχών επαφών p-n. Τα εξεταζόμενα δείγματα, ήταν wafer γερμανίου και wafer πυριτίου με επιφανειακή οξείδωση αλλά και με προσμείξεις Βορίου στην επιφάνειά τους. Οι διατάξεις laser που χρησιμοποιήθηκαν για την πειραματική μελέτη, ήταν ένα laser Νd:YAG στα 1,064 μm και ένα ΤΕΑ CO2 laser στα 10,6 μm. 'Ολα τα laser παρήγαγαν παλμούς στην κλίμακα των ns. 'Οπως αναφέρθηκε παραπάνω, ο βασικός στόχος αυτης της εργασίας ήταν η κατασκευή ρηχών επαφών από προσμείξεις Βορίου σε βάθη 13 nm. Γι αυτόν το λόγο, η διαδικασία της ανόπτησης έπρεπε να αποδώσει υψηλή ενεργοποίηση και πλήρη ανακρυστάλλωση των ακτινοβολημένων περιοχών. Προκειμένου να προσδιοριστεί η επίδραση της ακτινοβολίας στα δείγματα, αυτά μελετήθηκαν μέσω ηλεκτρονικού μικροσκοπίου. Με αυτόν τον τρόπο, μελετήθηκαν και καταγράφηκαν οχι μόνο οι αλλαγές στη μορφολογία των ακτινοβολημένων περιοχών, αλλά και τα φαινόμενα τήξης και ανακρυστάλλωσης που ίσως προέκυψαν στην περιφέρεια των ακτινοβολημένων περιοχών. Τα δείγματα, χαρακτηρίστηκαν ηλεκτρικά με βάση τη μέθοδο “Van Der Pauw”, προκειμένου να διαπιστωθούν αλλαγές στην αγωγιμότητα των ακτινοβολημένων περιοχών για την ανάπτυξη ρηχών επαφών. | el |
heal.abstract | This work presents the results of an experimental study aiming to determine the best laser annealing conditions for doped Si-wafers, in order to selectively modify the conductivity of the treated areas and create swallow p-n junctions. The samples examined were germanium and silicon wafers with a thin film of silicon oxide on top as well as boron doped silicon wafers. The laser systems used in the experimental setup were a Nd:YAG laser operating at 1,064 μm and a TEA CO2 laser operating at 10,6 μm. All lasers were producing pulses in the nanosecond regime. As mentioned above, the main target of this study is to fabricate swallow p-n junctions based on boron impurities with depths up to 13 nm. For this purpose the annealing procedure should exhibit high activation efficiency and full recrystallization of the affected regions. In order to determine the influence of the laser treatment on the samples, they were studied through electron microscope. In this way, not only the changes in the morphology of the irradiated areas, but also the influence of the probable side effects, like melting and recrystallization of the treated regions, were determined and recorded. The samples were further characterized using “Van Der Pauw” electrical measurements in order to identify the modifications in the conductivity of the irradiated areas, as well as the development of swallow p-n junctions, as required. | en |
heal.advisorName | Σεραφετινίδης, Αλέξανδρος | el |
heal.committeeMemberName | Τσουκαλάς, Δημήτριος | el |
heal.committeeMemberName | Σεραφετινίδης, Αλέξανδρος | el |
heal.committeeMemberName | Μακροπούλου, Μυρσίνη | el |
heal.academicPublisher | Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο. Σχολή Εφαρμοσμένων Μαθηματικών και Φυσικών Επιστημών. Τομέας Φυσικής. Εργαστήριο Οπτοηλεκτρονικής, Λέηζερ και Εφαρμογών τους | el |
heal.academicPublisherID | ntua | |
heal.numberOfPages | 98 σ. | |
heal.fullTextAvailability | true |
Οι παρακάτω άδειες σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο: