dc.contributor.author | Κανελλόπουλος, Ιωάννης | el |
dc.contributor.author | Kanellopoulos, Ioannis | en |
dc.date.accessioned | 2024-07-08T12:33:33Z | |
dc.date.available | 2024-07-08T12:33:33Z | |
dc.identifier.uri | https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/59832 | |
dc.identifier.uri | http://dx.doi.org/10.26240/heal.ntua.27528 | |
dc.description | Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο--Μεταπτυχιακή Εργασία. Διεπιστημονικό-Διατμηματικό Πρόγραμμα Μεταπτυχιακών Σπουδών (Δ.Π.Μ.Σ.) “Μικροσυστήματα και Νανοδιατάξεις” | el |
dc.rights | Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ελλάδα | * |
dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/gr/ | * |
dc.subject | Ημιαγωγοί | el |
dc.subject | Ηλεκτρικός Χαρακτηρισμός | el |
dc.subject | Νιτρίδιο του πυριτίου | el |
dc.subject | Μεμριστορ | el |
dc.subject | Μηχανισμοί Κατάρρευσης | el |
dc.subject | Dielectric Breakdown | en |
dc.subject | Semiconductors | en |
dc.subject | Silicon Nitride | en |
dc.subject | Memristor | en |
dc.subject | Electrical Characterization | en |
dc.title | Μηχανισμοί κατάρρευσης λεπτών υμενίων νιτριδίου του πυριτίου | el |
dc.title | Dielectric Breakdown Mechanisms of Thin Film Silicon Nitrides | en |
heal.type | masterThesis | |
heal.classification | Semiconductors | en |
heal.language | el | |
heal.access | free | |
heal.recordProvider | ntua | el |
heal.publicationDate | 2024-02-15 | |
heal.abstract | Η παρούσα διπλωματική εμβαθύνει στον ηλεκτρικό χαρακτηρισμό της διηλεκτρικής κατάρρευσης σε πέντε παρόμοιες συσκευές μνημαντιστατών οι οποίες εμπεριέχουν το νιτρίδιο του πυριτίου ως διηλεκτρικό. Ο βασικός μας στόχος είναι να κατανοήσουμε καλύτερα τους μηχανισμούς αγωγιμότητας οι οποίοι λαμβάνουν χώρα κατά τη δημιουργία του αγώγιμου νήματος, κάτι το οποίο είναι κεντρικής σημασίας για τον τρόπο λειτουργίας των μνήμών Resistive RAM. Οι μνημαντιστάτες, με τις δυνατότητες τους για την δημιουργία νευρομορφικής αρχιτεκτονικής, σηματοδοτούν την μετατόπιση πέρα από τα όρια του νόμου του Moore και της συμβατικής αρχιτεκτονικής von Neumann. Από τις συσκευές που κατασκευάστηκαν, μια χρησιμεύει ως δείγμα αναφοράς διατηρώντας της στοιχιομετρία της, δυο αποτελούν μη στοιχιομετρικές συνθέσεις και δυο εναπομείναντες περιλαμβάνουν αυξημένες συγκεντρώσεις οξυγόνου. Μέσω της σύγκρισης τριών διαφορετικών μοντέλων - του μοντέλου E, του μοντέλου 1/E και του μοντέλου √E - για την ανάλυση της χρονοεξαρτώμενης κατάρρευσης διηλεκτρικού, θα προσπαθήσουμε να διακρίνουμε τον συγκεκριμένο μηχανισμό αγωγιμότητας που επικρατεί σε κάθε συσκευή | el |
heal.abstract | The present thesis delves into the electrical characterization of dielectric breakdown in five similar memristor devices utilizing silicon nitride as their dielectric material. The primary aim is to enhance our understanding of the conduction mechanism during the formation of the conductive filament, a pivotal aspect of the Resistive Random Access Memory (ReRAM) operation mode. Memristors, with their potential for neuromorphic architectures, mark a transition from traditional von Neumann architectures, signaling a shift beyond Moore’s Law. Among the fabricated devices, one serves as a reference, maintaining stoichiometry, while two exhibit non-stoichiometric compositions, and the remaining two incorporate additional oxygen concentration. Through the comparison of three distinct models model E, model 1/E, and model √E — for time-dependent breakdown analysis, we attempt to discern which conduction mechanism takes place in each device. | en |
heal.advisorName | Δημητράκης, Παναγίωτης | el |
heal.advisorName | Dimitrakis, Panagiotis | en |
heal.committeeMemberName | Ράπτης, Ιωάννης | en |
heal.committeeMemberName | Τσουκαλάς, Δημήτρης | en |
heal.academicPublisher | Εθνικό Μετσόβιο Πολυτεχνείο. Σχολή Εφαρμοσμένων Μαθηματικών και Φυσικών Επιστημών | el |
heal.academicPublisherID | ntua | |
heal.numberOfPages | 115 σ. | el |
heal.fullTextAvailability | false |
Οι παρακάτω άδειες σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο: