dc.contributor.author | Normand, P | en |
dc.contributor.author | Beltsios, K | en |
dc.contributor.author | Tserepi, A | en |
dc.contributor.author | Aidinis, K | en |
dc.contributor.author | Tsoukalas, D | en |
dc.contributor.author | Cardinaud, C | en |
dc.date.accessioned | 2014-03-01T01:50:38Z | |
dc.date.available | 2014-03-01T01:50:38Z | |
dc.date.issued | 2001 | en |
dc.identifier.uri | https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/26060 | |
dc.title | A Masking Approach for Anisotropic Silicon Wet Etching | en |
heal.type | journalArticle | en |
heal.identifier.primary | 10.1149/1.1398559 | en |
heal.identifier.secondary | http://dx.doi.org/10.1149/1.1398559 | en |
heal.publicationDate | 2001 | en |
heal.journalName | Electrochemical and Solid State Letters | en |
dc.identifier.doi | 10.1149/1.1398559 | en |
Αρχεία | Μέγεθος | Μορφότυπο | Προβολή |
---|---|---|---|
Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο. |