Efficient Estimation of Reliability Metrics for Circuits in Deca-Nanometer Nodes

Abstract

Καθώς η τεχνολογία οδηγεί στη κατασκευή τρανζίστορ ολοένα και μικρότερων διαστάσεων, έχουν εμφανιστεί αρκετά φαινόμενα που επηρεάζουν την αξιοπιστία των ολοκληρωμένων κυκλωμάτων. Ένα από αυτά τα φαινόμενα ονομάζεται "Bias Temperature Instability", αποτελεί σημαντικό κίνδυνο για την αξιοπιστία των ολοκληρωμένων κυκλωμάτων και έχει παρατηρηθεί εδώ και πάνω από 30 χρόνια. Το πρώτο μοντέλο που προσπάθησε να εξηγήσει αυτό το φαινόμενο εμφανίστηκε πριν από 30 περίπου χρόνια, βασίστηκε στη διάχυση υδρογόνου και ως εκ τούτου ονομάστηκε "Reaction-Diffusion model". Πριν από μερικά χρόνια δημιουργήθηκε ένα νέο ατομιστικό μοντέλο το οποίο βασίζεται κυρίως στην εμφάνιση ελαττωμάτων στο διηλεκτρικό μεταξύ της πύλης και του καναλιού των FET τρανζίστορ. Μελετώντας κανείς τη βιβλιογραφία που αφορά στο ατομιστικό αυτό μοντέλο, μπορεί να συναντήσει εργαλεία που προσομοιώνουν με ακρίβεια το μοντέλο αλλά δυστυχώς απαιτούν αρκετό χρόνο για να εκτελεστούν, κάτι το οποίο τα καθιστά απαγορευτικά για εκτενή χρήση. Παράλληλα, υπάρχουν εργαλεία βασισμένα στο μοντέλο της διάχυσης τα οποία βέβαια αδυνατούν να παράξουν σωστά και λεπτομερή αποτελέσματα, κυρίως σε τεχνολογίες μικρών διαστάσεων. Η παρούσα λοιπόν διπλωματική εργασία παρουσιάζει τα αποτελέσματα ενός νέου και καινοτόμου εργαλείου το οποίο βασίζεται στο ατομιστικό μοντέλο, ωστόσο προσομοιώνει αποδοτικά αλλά και με ακρίβεια το φαινόμενο της γήρανσης. Ένα αντιπροσωπευτικό μονοπάτι στατικής μνήμης (SRAM) θα χρησιμοποιηθεί ως παράδειγμα της λειτουργίας του μοντέλου ενώ παράλληλα θα υπολογισθούν, με βάση τα αποτελέσματα των προσομοιώσεων αυτών, μετρικές, σημαντικές για το χαρακτηρισμό της απόδοσης και αξιοπιστίας του κυκλώματος, ενώ παράλληλα θα μελετηθούν λεπτομερώς και οι σχέσεις που τις συνδέουν.

In modern technologies of integrated circuits (IC) and with the downscaling of device dimensions, various degradation modes constitute major reliability concerns. Bias Temperature Instability (BTI) is a representative example, posing as a significant reliability threat in Field-Effect Transistor (FET) technologies and has been known for more than 30 years. At first, the model that tried to explain this phenomenon was based on the Reaction-Diffusion (RD) theory and was developed nearly 30 years ago. Recently, an atomistic model has been proposed, that enables the modeling of BTI in modern technologies. By observing the amount of software designed to simulate the BTI degradation, tools can be found that are based on the atomistic theory but are computationally prohibitive when it comes to simulating complex circuits consisting of a large number of devices. Tools based on the RD model are unable to accurately capture the BTI-induced degradation, especially in devices with small dimensions. The current thesis is appropriately positioned since it discusses a novel simulation framework that is efficient yet highly accurate. A subset of an embedded Static Random Access Memory (SRAM) is used for verification purposes. The estimation of the functional yield of the circuit over three years of operation will be examined as well as other reliability metrics, such as defects per million (DPM), mean time to failure (MTTF) and failures in time (FIT rate). Finally, the interplay between these metrics is discussed and efficient computation methods are proposed for each one.