HEAL DSpace

SiO2 and Si etching in fluorocarbon plasmas: A detailed surface model coupled with a complete plasma and profile simulator

Αποθετήριο DSpace/Manakin

SiO2 and Si etching in fluorocarbon plasmas: A detailed surface model coupled with a complete plasma and profile simulator

Gogolides, E; Vauvert, P; Courtin, Y; Kokkoris, G; Pelle, R; Boudouvis, A; Turban, G
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/13375
Ημερομηνία: 1999

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)