HEAL DSpace

SiO2 and Si etching in fluorocarbon plasmas: Coupling of a surface model with a profile evolution simulator.

Αποθετήριο DSpace/Manakin

SiO2 and Si etching in fluorocarbon plasmas: Coupling of a surface model with a profile evolution simulator.

Kokkoris, G; Gogolides, E; Boudouvis, AG
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/13793
Ημερομηνία: 2000

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)