HEAL DSpace

The applicability of logarithmic extreme value distributions in electomigration induced failures of Al/Cu thin-film interconnects

Αποθετήριο DSpace/Manakin

The applicability of logarithmic extreme value distributions in electomigration induced failures of Al/Cu thin-film interconnects

Loupis, MI
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/24196
Ημερομηνία: 1995

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)