HEAL DSpace

Coarsening of End-of-Range defects in ion-implanted silicon annealed in neutral and oxidizing ambients

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Coarsening of End-of-Range defects in ion-implanted silicon annealed in neutral and oxidizing ambients

Giles, L; Omri, M; Mauduit, B; Claverie, A; Skarlatos, D; Tsoukalas, D; Nejim, A
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/25349
Ημερομηνία: 1999

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)