HEAL DSpace

Investigation of the influence of a dislocation loop layer on interstitial kinetics during surface oxidation of silicon

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Investigation of the influence of a dislocation loop layer on interstitial kinetics during surface oxidation of silicon

Tsoukalas, D; Skarlatos, D; Stoemenos, J
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/26122
Ημερομηνία: 2001

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)