HEAL DSpace

Influence of implantation energy on the electrical properties of ultrathin gate oxides grown on nitrogen implanted Si substrates

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Influence of implantation energy on the electrical properties of ultrathin gate oxides grown on nitrogen implanted Si substrates

Kapetanakis, E; Skarlatos, D; Tsamis, C; Normand, P; Tsoukalas, D
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/26808
Ημερομηνία: 2003

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)