HEAL DSpace

Interstitial injection during oxidation of very low energy nitrogen-implanted silicon

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Interstitial injection during oxidation of very low energy nitrogen-implanted silicon

Skarlatos, D; Tsamis, C; Perego, M; Fanciulli, M; Tsoukalas, D
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/31380
Ημερομηνία: 2005

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)