HEAL DSpace

Highly anisotropic room-temperature sub-half-micron Si reactive ion etching using fluorine only containing gases

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Highly anisotropic room-temperature sub-half-micron Si reactive ion etching using fluorine only containing gases

Gogolides, E; Grigoropoulos, S; Nassiopoulos, A
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/24070
Ημερομηνία: 1995

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)