HEAL DSpace

Etching of SiO2 and Si in fluorocarbon plasmas: A detailed surface model accounting for etching and deposition

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Etching of SiO2 and Si in fluorocarbon plasmas: A detailed surface model accounting for etching and deposition

Gogolides, E; Vauvert, P; Kokkoris, G; Turban, G; Boudouvis, AG
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/25950
Ημερομηνία: 2000

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)