HEAL DSpace

Influence of implantation dose on the charge storage characteristics of MOS memory devices with low energy Si implanted gate oxides

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Influence of implantation dose on the charge storage characteristics of MOS memory devices with low energy Si implanted gate oxides

Kapetanakis, E; Normand, P; Tsoukalas, D; Beltsios, K
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/26358
Ημερομηνία: 2002

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)