HEAL DSpace

Effects of Switched-bias Annealing on Charge Trapping in HfO2 Gate Dielectrics

Αποθετήριο DSpace/Manakin

Effects of Switched-bias Annealing on Charge Trapping in HfO2 Gate Dielectrics

Zhou, X; Fleetwood, D; Tsetseris, L; Schrimpf, R; Pantelides, S
URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/27535
Ημερομηνία: 2006

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)