Υπολογιστική μελέτη και ανάπτυξη μοντέλου της κινητικής του αντιδρώντος συστήματος TEOS/Ο3/Ο2 με στόχο τη βελτιστοποίηση διεργασιών εναπόθεσης υμενίων SiO2 μέσω CVD υπό ατμοσφαιρική πίεση και μέτριες θερμοκρασίες.

Χλιαβώρας, Γεώργιος Αλέξανδρος; Chliavoras, George Alexander

Υπολογιστική μελέτη και ανάπτυξη μοντέλου της κινητικής του αντιδρώντος συστήματος TEOS/Ο3/Ο2 με στόχο τη βελτιστοποίηση διεργασιών εναπόθεσης υμενίων SiO2 μέσω CVD υπό ατμοσφαιρική πίεση και μέτριες θερμοκρασίες.

Title: Υπολογιστική μελέτη και ανάπτυξη μοντέλου της κινητικής του αντιδρώντος συστήματος TEOS/Ο3/Ο2 με στόχο τη βελτιστοποίηση διεργασιών εναπόθεσης υμενίων SiO2 μέσω CVD υπό ατμοσφαιρική πίεση και μέτριες θερμοκρασίες.;
Computational study and development of a kinetic model for the moderate temperature, atmospheric pressure chemical vapor deposition of SiO2 films from the TEOS/O3/O2 chemical system.

Χλιαβώρας, Γεώργιος Αλέξανδρος; Chliavoras, George Alexander

URI: https://dspace.lib.ntua.gr/xmlui/handle/123456789/51449
http://dx.doi.org/10.26240/heal.ntua.19147

Show full item record